硅片腐蚀设备承诺守信 苏州晶淼半导体

硅料清洗机设备

现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加，硅料在运用也加大了硅料清洗的需求，但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说所有的硅料清洗机都是好的，他也是有许多的清洗方法的。

很多企业开发并生产硅料清洗机，所以目前市面上有多种用于太阳能硅料清洗的工艺，比如超声清洗法、RCA标准清洗、兆声清洗法、高压喷射法、离心喷射法、等离子清洗、气相清洗、激光束清洗等等，形成了百花齐放的势态。使用何种清洗工艺方法，需要根据不同客户不同硅片上的表面状态、洁净度、污染情况等进行选择。据业内反馈，在众多的清洗方法中，硅料清洗机使用较多的是超声波清洗法与RCA标准清洗法。

研究所及其他原子能工业：

需要清洗的产品：控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等

污染源：灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油

使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤剂；纯水；有机性洗涤剂

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

各工序简要说明以下：

①进料：物件进料可采用半踊跃进料

②压电式换能器目前国表里大多数超声波清洗机用的是压电式换能器，勘L形结构。

这种换能器通常有两片压电陶瓷晶片构成。一台清洗机用多个换能器，经粘接剂粘接在清洗缸底部且经并联联接构成一台清洗机的换能器。换能器基元之间距(关于频率20kH4多数在5—10为佳，太大了简单制作生笔直振动，且振动板遭到腐蚀，同时辐射面减少。

单晶圆清洗(SWC)系统，用于***的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的***大化支持的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。