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半导体清洗机

半导体清洗机原理主要是通过换能器，然后将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。

在液体中传播的超声波能对物体表面的污物进行清洗，其原理可用“空化”现象来解释：超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时，其功率密度为0.35w/cm2，那么这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压，但是实际上无负压存在，因此在液体中就会产生一个很大的力，然后将液体分子拉裂成空洞一空化核。此时空洞会非常接近真空的，它在超声波压强反向是会达到*这种由无数细小的空化气泡而产生的冲击波现象称为“空化”现象。

需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、***装饰品、手饰、各类精密零件

污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类

使用清洗剂2：碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂，纯水

眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的，有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液，如洗洁精等，有的还添加了杀菌剂

超声波清洗机橡胶工业：

需要清洗的产品：手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模/陶瓷模等

污染源：***、尘垢、防腐剂、油墨、染料、塑料残留物、橡胶残渣

使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；纯水

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；