南通晶圆清洗机服务为先「苏州晶淼半导体」

清洗机设备

平制造工程和制造工艺

      作为LCD制造工艺有代表性的清洗处理有以下几类：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蚀处理后的清洗

      3）屏组装工程的清洗

            摩擦后清洗

            US气吹

            屏清洗装置

            清洗检测装置

      4）其他相关的附带清洗装置

            边框胶印刷用版的清洗

            夹具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剥离清洗

            卷扬干燥机

            IPA蒸气干燥机

            旋转

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

清洗机

机械零部件的污垢主要有润滑脂、防锈油脂及其他混合物组成的油泥，可以采用碱性清洗液清洗、电化学清洗，也可采用超声波清洗机清洗，超声波清洗机清洗是一个清洗的专门类别，属工业清洗。采用碱性清洗液清洗 碱性清洗液化学清洗的工艺流程为：装挂－碱液清洗－水洗（50-90℃热水）－干燥（热压缩空气吹干，要求较高的零部件，经压缩空气吹干后，还需要在105-1150C的电热鼓风干燥箱中烘烤10分钟. 采用碱性清洗液的电化学清洗 超声波清洗应注意下列点：不宜清洗机件表面较厚的油污，油污较厚时需采用高压喷淋的方法进行预清洗，对于弹簧件、薄壁钢件，超高强度钢件等不能在阴极上清洗（为避免材料渗氢，产生氢脆现象）；对铜、锌、镍等材料制成的机件不能在阳极上清洗（避免材料表面氧化）；定期进行电解液的定量分析，按分析结果补充化学***。

超声波清洗 ：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20Hz以下；声波的频率为20Hz~20kHz；超声波的频率则为20kHz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。